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    • 適用於高溫（wēn）高壓條件下的幹法除塵設備

    • 本技術研發的目的在（zài）於提供一種適用於高溫高壓流化床粉體反反應的幹法除塵器，以解決實際（jì）生產過程中遇到的除塵效果不好（hǎo）、操作（zuò）困（kùn）難和除塵設備成本高（gāo）的技術問題，在三氯氫矽、多晶矽冷氫化以及（jí）有機矽合成製備（bèi）的工藝中廣（guǎng）泛的應用。...

    • 反應尾氣中氯氣的無害化處理裝置

    • 本技術研發要解決的技術問題是克服現有的缺陷，提供（gòng）一種反應尾氣中氯氣的無害化處（chù）理裝置，多次的淨化工序提高（gāo）了尾氣中氯氣的吸收（shōu）效率，自動化程度較高，控製精準且操作簡便，實現了反應尾氣中（zhōng）氯（lǜ）氣無害化處理過程的連續運行，實（shí）現對循環使用（yòng）的氫氧化鈉溶液進行...

    • 鈣鈦礦用（yòng）高純碘化鉛類金屬鹵化物的（de）工業化生產

    • 本技術研發要解決的技術問題是克服現（xiàn）有的缺陷，提供一種高純碘化鉛類金屬鹵化物生產裝置，實現（xiàn）鈣鈦（tài）礦用高純碘化鉛類金屬鹵化物的工業化製備，自（zì）動化程度較高，可為高純碘（diǎn）化鉛類金屬鹵化物節約人工成本，通過降溫重結晶的方法製備的產品純度較高，提高高純碘化...

    • CMP研磨液專（zhuān）用氣相二氧化矽

    • CMP (ChemicalMechanicalPolishing)化學機械拋光是一個化學腐蝕和機械摩（mó）擦的結（jié）合。是目前較為普遍的半導體材（cái）料表麵平整技術，兼收了機械摩（mó）擦和化學腐蝕的優點，從（cóng）而（ér）避免了由單純（chún）機械（xiè）拋光造成的（de）表麵損傷和由單（dān）純化學拋（pāo）光易造...

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